На лінії виготовлення друкованих плат процес висушування захисного шару є критичним моментом – саме тут визначається якість з’єднань елементів плати. Чим більш тісні проміжки між контактами, тим більша небезпека недостатнього висушування, що призводить до проблем із зчепленням елементів. Надмірне висушування ж робить захисний шар крихким та ускладнює подальшу обробку. Йдеться не лише про кількість УФ-випромінювання, а й про те, чи відповідає спектр випромінювання хімічному складу фотоініціатора, який знаходиться в захисному шарі.
Що є важливим з технічної точки зору:
Лампи на основі галію створюють спектр випромінювання в діапазоні 395–410 нм, що дозволяє зменшити кількість випромінювання в діапазонах 254 нм та 313 нм. Це запобігає появі зайвого тепла та озону. Такий спектр забезпечує вищу інтенсивність випромінювання на домінуючій довжині хвилі, що дозволяє енергії ефективно потрапляти туди, де може її поглинути фотоініціатор.
Необхідна стабільність процесу висушування, послідовний спектральний розподіл протягом усього терміну служби лампи, а також дизайн відбивача, який забезпечує однорідність процесу по всій площі плати. На практиці це означає швидше з’єднання елементів плати при меншому підвищенні температури матеріалу.
Чому це корисно:
На щільних платах спектр випромінювання ламп на основі галію забезпечує необхідну щільність енергії на правильній довжині хвилі. Це дозволяє швидко висушити поверхню плати, водночас дозволяючи енергії проникати в проміжки між контактами, без пошкодження самої плати. Це забезпечує стабільне зчеплення елементів плати, менше дефектів та можливість роботи з платами різної товщини.
Порівняно зі стандартними лампами на основі ртуті, лампи на основі галію працюють довше та споживають менше енергії на одну плату. Це безпосередньо знижує собівартість виробництва плат, якщо врахувати витрати на заміну ламп, обслуговування та відходи.
Що потрібно запам’ятати:
Лампи на основі галію є специфічними за довжиною хвилі, тож дихроїчні покриття відбивача та оптична система повинні бути налаштовані на діапазон 395–410 нм. Якщо ви використовуєте ці лампи в існуючій лінії UV-обробки, можливо, доведеться змінити параметри корпусу лампи, толеранції затвора та відстані між елементами для підтримки необхідної інтенсивності випромінювання.
Якщо проблемою є вплив кисню на процес висушування, використовуйте азот як інертний газ. Також не слід зосереджуватися лише на потужності лампи – необхідно перевіряти спектр випромінювання за допомогою радіометра, щоб контролювати процес.