http://uv-curing-techs.com/uk/tags/%D0%B4%D1%80%D1%83%D0%BA/ Recent content in Друк on UV Curing Techs Hugo uk Wed, 24 Jun 2026 07:52:27 +0800 http://uv-curing-techs.com/uk/posts/uv-lamp-for-screen-printing/ Wed, 24 Jun 2026 07:52:27 +0800 http://uv-curing-techs.com/uk/posts/uv-lamp-for-screen-printing/ <p><img src="http://uv-curing-techs.com/images/0c45ccc8f15f63d49dc19cb9e5226d35.png" alt="УФ лампа для серіграфії"></p> <p>На поверхні пресування саме лампа визначає всі параметри процесу. Якщо використовувати неплоску поверхню, виникає та сама проблема: лампа освітлює рівні ділянки поверхні, але УФ-енергія затримується в тінистих місцях – через що фарба залишається незасиханою, липкою та готовою до утилізації. Ми створили цю УФ-лампу саме для екранного друку з однією метою – змінити спектр випромінювання так, щоб тіні не мали жодних шансів.</p> <p><strong>Що є важливим у конструкції лампи</strong><br> Ми використали лампу на основі ртутного пару під високим тиском, яка забезпечує стабільне спектральне випромінювання, яке відповідає діапазону поглинання фотоініціаторів у більшості УФ-фарб для екранного друку. Це означає сильне випромінювання на довжині хвилі 365 нм, доповнене випромінюванням на довжинах хвиль 385 та 405 нм. Максимальна інтенсивність випромінювання налаштовується так, щоб фотоініціатор швидко починав процес зсуву молекул – ще до того, як фарба встигне стати липкою. Крім того, лампа поєднується з рефлектором з дихроїчним покриттям, який формує кут поширення променя, скорочуючи кількість відхиленого світла та підвищуючи щільність енергії на потрібній ділянці. Це дозволяє досягти стабільної ступеня засихання фарби на рівні 800–1200 мДж/см², що вимірюється за допомогою каліброваного спектрального радіометра.</p> http://uv-curing-techs.com/uk/posts/mercury-uv-lamp-for-offset-printing/ Tue, 23 Jun 2026 09:06:57 +0800 http://uv-curing-techs.com/uk/posts/mercury-uv-lamp-for-offset-printing/ <p><img src="http://uv-curing-techs.com/images/202304ad6af0f8b478173f2775b1fe8a.png" alt="Лампа УФ на ртуті для офсетного друку"></p> <p>На лінії виробництва PCB прес для нанесення захисного шару використовується для нанесення цього шару на доріжки товщиною 50 мікрон. Недостатнє висихання матеріалу призводить не лише до поганої якості плати, а й до утворення з’єднань між елементами плати, втрати їх адгезії та необхідності утилізації бракованих продуктів. Лампа повинна постійно забезпечувати стабільну кількість енергії саме там, де знаходиться чорнило.</p> <p><strong>Що є важливим з технічної точки зору</strong><br> При використанні ламп на основі ртутного пару для висихання матеріалу важливими є спектральний склад випромінювання та його щільність. Ми використовуємо спектр із піком при 365 нм, який відповідає характеристикам фотоініціаторів, що використовуються в захисних шарах з епоксидно-акрилатних матеріалів. Інтенсивність випромінювання досягає 12 Вт/см² на поверхні матеріалу, а загальна кількість енергії, яка потрапляє на матеріал, становить 800–1200 мДж/см². Дзеркала використовують дихроїчні покриття для формування спектру випромінювання, що дозволяє уникнути надмірного нагрівання матеріалу та збільшити кількість УФ-випромінювання, яке потрапляє на чорнило.</p>